← Retour aux actualités
📰 Actualités
🇩🇪 DE
ASML souhaite utiliser les systèmes les plus récents pour les puces plus grosses avec de gros clients de puces
ASML souhaite utiliser les derniers systèmes pour des puces plus grandes avec de gros clients de puces MarketScreener Allemagne Jalon : Intel a exposé un million de tranches avec un EUV à haute NA heise en ligne Intel High-NA-EUV : un million de tranches et des photomasques plus grands sont prévus ComputerBase Intel Foundry et ASML : une production de masse à High-NA-EUV et la voie vers des masques 6x12" Hardwareluxx Des masques plus grands devraient ouvrir une high-NA-EUV pour les grosses puces. Pratique électronique
Lire l'article original ↗🌍 Traductions
🇬🇧
English
ASML wants to use the latest systems for larger chips with large chip customers
ASML wants to use the latest systems for larger chips with large chip customers MarketScreener Germany Milestone: Intel exposed a million wafers with high-NA EUV heise online Intel High-NA-EUV: A million wafers and larger photomasks planned ComputerBase Intel Foundry and ASML: Mass production at High-NA-EUV and the path to 6x12" masks Hardwareluxx Larger masks expected to open high-NA-EUV for large chips. Electronic practice.
🇪🇸
Español
ASML quiere utilizar los últimos sistemas para chips más grandes con clientes de chips grandes
ASML quiere utilizar los últimos sistemas para chips más grandes con clientes de chips grandes MarketScreener Alemania Hito: Intel expuso un millón de obleas con alto NA-EUV en línea Intel High-NA-EUV: Un millón de obleas y fotomáscaras planeadas ComputerBase Intel Foundry y ASML: Producción en masa en High-NA-EUV y el camino hacia máscaras de 6x12" Hardwareluxx Se espera que máscaras más grandes abran alto-NA-EUV para chips grandes. Práctica electrónica.
🇩🇪
Deutsch
ASML möchte die neuesten Systeme für größere Chips bei großen Chipkunden einsetzen
ASML will neueste Systeme für größere Chips bei großen Chipkunden einsetzen MarketScreener Deutschland Meilenstein: Intel hat eine Million Wafer mit High-NA-EUV freigelegt heise online Intel High-NA-EUV: Eine Million Wafer und größere Fotomasken geplant ComputerBase Intel Foundry und ASML: Massenproduktion bei High-NA-EUV und der Weg zu 6x12"-Masken Hardwareluxx Größere Masken sollen High-NA-EUV für große Chips eröffnen. Elektronische Praxis.
🇮🇹
Italiano
ASML desidera utilizzare i sistemi più recenti per chip più grandi con clienti di chip di grandi dimensioni
ASML vuole utilizzare i sistemi più recenti per chip più grandi con clienti di chip di grandi dimensioni MarketScreener Germania Pietra miliare: Intel ha esposto online un milione di wafer con alta NA EUV heise Intel High-NA-EUV: un milione di wafer e fotomaschere più grandi in programma ComputerBase Intel Foundry e ASML: produzione di massa a High-NA-EUV e il percorso verso maschere 6x12" Hardwareluxx Si prevede che mascherine più grandi apriranno un alto NA-EUV per chip di grandi dimensioni. Pratica elettronica.
🇷🇺
Русский
ASML хочет использовать новейшие системы для более крупных чипов с крупными заказчиками чипов.
ASML хочет использовать новейшие системы для более крупных чипов с крупными заказчиками чипов. MarketScreener, Германия. Этап: Intel представила миллион пластин с высокой числовой апертурой EUV. Intel High-NA-EUV: запланирован миллион пластин и более крупных фотошаблонов. ComputerBase Intel Foundry и ASML: массовое производство на High-NA-EUV и путь к маскам размером 6x12 дюймов. Hardwareluxx Ожидается, что маски большего размера откроют высокую NA-EUV для больших чипов. Электронная практика.
🇯🇵
日本語
ASML は、大型チップの顧客とともに、大型チップ向けに最新のシステムを使用したいと考えています
ASML は、大型チップの顧客との大型チップ向けに最新システムの使用を希望している MarketScreener Germany マイルストーン: Intel が高 NA EUV の 100 万枚のウェーハをオンラインで公開 Intel High-NA-EUV: 100 万枚のウェーハと大型フォトマスクが計画 ComputerBase Intel Foundry と ASML: High-NA-EUV での量産と 6x12 インチ マスクへの道 Hardwareluxx 大型マスクにより、大型チップ向けの高 NA-EUV が開かれると期待されている 電子実務。
🇸🇦
العربية
تريد ASML استخدام أحدث الأنظمة للرقائق الأكبر حجمًا مع عملاء الشرائح الكبيرة
تريد ASML استخدام أحدث الأنظمة للرقائق الأكبر حجمًا مع عملاء الرقائق الكبيرة MarketScreener Germany Milestone: كشفت Intel عن مليون رقاقة ذات ارتفاع NA-EUV عالي على الإنترنت Intel High-NA-EUV: تم التخطيط لمليون رقاقة وأقنعة ضوئية أكبر ComputerBase Intel Foundry وASML: الإنتاج الضخم في High-NA-EUV والطريق إلى أقنعة 6x12" من المتوقع أن تفتح أقنعة Hardwarelux الأكبر حجمًا عالي NA-EUV للرقائق الكبيرة. الممارسة الإلكترونية.
🇮🇱
עברית
ASML רוצה להשתמש במערכות העדכניות ביותר עבור שבבים גדולים יותר עם לקוחות שבבים גדולים
ASML רוצה להשתמש במערכות העדכניות ביותר עבור שבבים גדולים יותר עם לקוחות שבבים גדולים MarketScreener גרמניה אבן דרך: אינטל חשפה מיליון פרוסות עם EUV גבוה NA הינה מקוונת Intel High-NA-EUV: מיליון פרוסות ומסיכות פוטו גדולות יותר מתוכננות ComputerBase Intel Foundry ו-ASML: ייצור המוני ב-High-NA-EUV והנתיב ל-6x12 mask ל-Hardware-Lux. לתרגול אלקטרוני גדול.
